Овчинников, Вячеслав Алексеевич. Разработка технологии ретуширования прозрачных дефектов фотошаблонов на лазерной установке ЭМ-5001Б [Текст] / В. А. Овчинников // Известия вузов. Электроника. - 2009. - N 4. - С. 25-28 : рис. - Библиогр.: с. 28 (4 назв. )
Рубрики: Радиоэлектроника Общая радиотехника Кл.слова (ненормированные): режим осаждения -- фотолитография -- литографические процессы -- интегральные микросхемы -- кремниевые пластины Аннотация: Установлена зависимость высоты осажденного материала от режимов осаждения, кратности проходов и длины осажденной линии. Определены технологические режимы процесса устранения прозрачных дефектов на фотошаблоне. |