Рябчиков, Александр Ильич. Применение высокочастотного короткоимпульсного потенциала смещения для ионно-лучевой и плазменной обработки проводящих и диэлектрических материалов [Текст] / А. И. Рябчиков, И. Б. Степанов // Известия Томского политехнического университета. - 2010. - Т. 316, N 4. - С. 85-89 : ил. - Библиогр.: с. 89 (16 назв. ). . - ISSN 1684-8519
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Кл.слова (ненормированные): потенциалы смещения -- высокочастотные потенциалы -- короткоимпульсные потенциалы -- проводящие материалы -- диэлектрические материалы -- ионно-лучевая обработка -- плазменная обработка -- металлическая плазма -- абляционная плазма -- иммерсионная ионная имплантация -- модификация поверхности Аннотация: Приведены результаты исследований применимости метода высокочастотной короткоимпульсной плазменно-иммерсионной ионной имплантации и/или осаждения покрытий с использованием вакуумно-дуговой и абляционной плазмы к проводящим и диэлектрическим подложкам. Показано, что ионная имплантация с компенсацией ионного распыления осаждением покрытия из плазмы и ионно-ассистированное осаждение покрытия могут быть реализованы для металлических и диэлектрических образцов посредством изменения отрицательного потенциала смещения в диапазоне 0... 4 кВ при частоте повторения импульсов (2... 4, 4). 105 имп/с, длительности импульса 0, 5... 2 мкс и коэффициенте заполнения импульсов 0, 1... 0, 9. Экспериментально установлено, что при осаждении покрытий из абляционной плазмы, полученной воздействием высокоинтенсивного ионного пучка длительностью 90 нс, с плотностью тока 3. 10-2 А/м2 и энергией ионов 350 кэВ на мишень, микродуговые явления на поверхности подложки наблюдаются при постоянном потенциале смещения более -60 В. Переход на импульсы длительностью 0, 5 мкс позволил увеличить потенциал смещения до -4 кВ. Обсуждается возможность применения высокочастотных, короткоимпульсных потенциалов смещения для формирования покрытий из вакуумно-дуговой и абляционной плазмы с высокой адгезионной прочностью и улучшенными эксплуатационными характеристиками. Доп.точки доступа: Степанов, И. Б. Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден) |
Рябчиков, Александр Ильич. Исследование зарядового состояния газовой и металлической плазмы с использованием плазменно-иммерсионного времяпролетного спектрометра [Текст] / А. И. Рябчиков, И. Б. Степанов, С. Е. Еремин // Известия Томского политехнического университета. - 2010. - Т. 316, N 4. - С. 90-93 : ил. - Библиогр.: с. 93 (8 назв. ). . - ISSN 1684-8519
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Кл.слова (ненормированные): газовая плазма -- металлическая плазма -- зарядовые состояния ионов -- плазменно-иммерсионные спектрометры -- времяпролетные спектрометры -- спектрометры -- спектрометрия -- плазма -- массовый состав Аннотация: С использованием плазменно-иммерсионного времяпролетного спектрометра исследованы закономерности изменения массового состава и зарядового состояния ионов газовой и металлической плазмы в диапазоне давления 0, 1... 2, 7 Па. Показано, что применение плазменно-иммерсионного времяпролетного спектрометра с длиной пролетной базы 35... 100 см позволяет определять зарядовое состояние вакуумно-дуговой одно- (Ti, Zr, W, Ar, N2) и многокомпонентной (Ti-N, Ti-Zr) плазмы при длительности импульса потенциала смещения 300.. 650 нс. Определены области практического применения электрофизического оборудования. Доп.точки доступа: Степанов, И. Б.; Еремин, С. Е. Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден) |
Рябчиков, Александр Ильич. Источник псевдоленточных пучков ионов металлов [Текст] / А. И. Рябчиков, И. Б. Степанов, Д. О. Сивин // Известия Томского политехнического университета. - 2010. - Т. 316, N 4. - С. 94-97 : ил. - Библиогр.: с. 97 (5 назв. ). . - ISSN 1684-8519
Рубрики: Радиоэлектроника Электровакуумные приборы Кл.слова (ненормированные): ионы металлов -- псевдоленточные пучки -- ионные источники -- вакуумно-дуговые разряды -- металлическая плазма -- вакуумно-дуговые испарители -- ионные пучки -- ускоряющее напряжение Аннотация: Рассмотрена конструкция протяженного источника ионов проводящих материалов на основе непрерывного вакуумно-дугового разряда "Радуга-6". Показана возможность формирования псевдоленточных пучков ионов металлов протяженностью до 0, 6 м с током до 2 А и энергией до 160 кэВ с применением протяженного вакуумно-дугового испарителя с замкнутой траекторией движения катодного пятна. Приведены результаты исследования закономерностей изменения ионно-эмиссионных свойств вакуумно-дугового испарителя для различных систем формирования магнитного поля. Рассмотрены условия формирования ионного пучка в зависимости от режимов генерации ускоряющего напряжения. Доп.точки доступа: Степанов, И. Б.; Сивин, Д. О. Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден) |
Рябчиков, А. И. Применение тангенциального магнитного поля и импульсно-периодического потенциала смещения для подавления медных макрочастиц вакуумной дуги [Текст] / А. И. Рябчиков, П. С. Ананьин, А. Э. Шевелев // Известия вузов. Физика. - 2016. - Т. 59, № 6. - С. 125-130 : рис. - Библиогр.: c. 129-130 (12 назв. ) . - ISSN 0021-3411
Рубрики: Физика Движение заряженных частиц в электрических и магнитных полях Кл.слова (ненормированные): вакуумно-дуговый разряд -- импульсно-периодический потенциал смещения -- короткоимпульсный отрицательный потенциал смещения -- металлическая плазма -- микрокапельная фракция -- плотность медных макрочастиц -- тангенциальное магнитное поле Аннотация: Изучено влияние нормального и тангенциального к поверхности катода магнитных полей и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения отрицательной полярности на накопление макрочастиц на потенциальной мишени, погруженной в медную вакуумно-дуговую плазму. Показано, что использование вакуумно-дугового испарителя с тангенциальным к поверхности катода магнитным полем уменьшает генерацию медных макрочастиц в 5 раз по сравнению с аксиально-симметричным вакуумно-дуговым испарителем, в котором используется нормальное к рабочей поверхности катода магнитное поле. Установлено, что совместное действие тангенциального поля и короткоимпульсного высокочастотного потенциала смещения обеспечивает возможность снижения плотности медных макрочастиц на поверхности мишени на 2-3 порядка. Доп.точки доступа: Ананьин, П. С.; Шевелев, А. Э. Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден) |