Фазовые превращения при облучении системы пленка/подложка электронным пучком [Текст] / Ю. Ф. Иванов [и др.] // Известия вузов. Физика. - 2017. - Т. 60, № 1. - С. 150-155 : рис., табл. - Библиогр.: c. 154-155 (27 назв. ) . - ISSN 0021-3411
Рубрики: Техника Сопротивление материалов Кл.слова (ненормированные): алюминий А7 -- интенсивный электронный пучок -- система пленка/подложка -- сплав Zr-Ti-Cu -- термодинамический анализ фазообразования -- фазовые превращения -- цирконий - титан - медь Аннотация: Установлено, что облучение системы "пленка (Zr-Ti-Cu) / (A7) подложка" интенсивным электронным пучком сопровождается формированием многофазного состояния, микротвердость которого примерно в 4. 5 раза превышает микротвердость технически чистого алюминия А7, что обусловлено диспергированием зеренной структуры подложки и выделением в поверхностном слое алюминидов циркония. Доп.точки доступа: Иванов, Ю. Ф.; Клопотов, А. А.; Потекаев, А. И.; Ласковнёв, А. П.; Тересов, А. Д.; Цветков, Н. А.; Петрикова, Е. А.; Крысина, О. В.; Иванова, О. В.; Шугуров, В. В.; Шегидевич, А. А.; Кулагина, В. В. Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден) |
Поверхностное легирование стали 2х8н0Т электронно-плазменным методом [Текст] / Ю. Ф. Иванов [и др.] // Известия вузов. Физика. - 2017. - Т. 60, № 3. - С. 121-128 : рис., табл. - Библиогр.: c. 127 (19 назв. ) . - ISSN 0021-3411
Рубрики: Физика Физика твердого тела. Кристаллография в целом Технология металлов Металловедение черных металлов и сплавов Кл.слова (ненормированные): аустенитная нержавеющая сталь -- аустенитная сталь -- интенсивный электронный пучок -- легирование стали -- легированнные слои -- наноструктурные слои -- нанофазные слои -- низкотемпературная плазма -- поверхностное легирование стали -- система пленка/подложка -- специальные карбиды Аннотация: Выявлены и проанализированы закономерности формирования наноструктурных, нанофазных поверхностных слоев в стали аустенитного класса, подвергнутой поверхностному легированию электронно-плазменным методом. Формирование наноструктурных, нанофазных поверхностно легированных слоев толщиной до 30 мкм осуществляли плавлением системы "пленка/подложка" высокоинтенсивным импульсным электронным пучком на установке "СОЛО", обеспечивающей кристаллизацию и последующую закалку со скоростями охлаждения в интервале 105-108 К/с. В качестве модифицируемого материала использованы образцы стали 12Х18Н10Т. Систему "пленка / подложка" (толщина пленки 0. 5 мкм) формировали вакуумно-дуговым методом с плазменным ассистированием путем испарения катода из спеченного псевдосплава Zr - 6 ат. % Ti - 6 ат. % Cu. Напыление пленки осуществляли на установке "КВИНТА", оснащенной плазменным источником с накаленным катодом ПИНК и дуговыми испарителями ДИ100 с усиленным охлаждением рабочего катода, что позволяло снизить размеры и долю частиц капельной фракции в напыляемой пленке. Установлено, что плавление системы "пленка (Zr-Ti-Cu) / (сталь 12Х18Н10Т) подложка" интенсивным импульсным электронным пучком и последующая высокоскоростная кристаллизация сопровождается формированием в поверхностном слое структуры ячеистой кристаллизации альфа-железа, выделением по границам ячеек частиц Cr[2]Zr, Cr[3]С[2] и TiC, что в совокупности позволило повысить микротвердость материала в 1. 3 раза, модуль Юнга в 1. 2 раза, износостойкость в 2. 7 раза и уменьшить коэффициент трения в 3 раза. Доп.точки доступа: Иванов, Ю. Ф.; Тересов, А. Д.; Петрикова, Е. А.; Крысина, О. В.; Иванова, О. В.; Шугуров, В. В.; Москвин, П. В. Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден) |
Гушенец, В. И. Эффект увеличения электрической прочности в плазмонаполненной системе формирования интенсивного электронного пучка [Текст] / В. И. Гушенец, А. С. Бугаев, Е. М. Окс // Известия вузов. Физика. - 2017. - Т. 60, № 9. - С. 49-53 : рис. - Библиогр.: c. 53 (8 назв. ) . - ISSN 0021-3411
Рубрики: Энергетика Теоретические основы электротехники Электротехнические материалы и изделия в целом Кл.слова (ненормированные): анодная плазма -- интенсивный электронный пучок -- плазменный эмиттер электронов -- плазмооптическая система -- электрическая прочность -- электронные пучки Аннотация: Приводятся результаты исследования экспериментально обнаруженного эффекта увеличения электрической прочности ускоряющего промежутка в плазмонаполненной оптической системе формирования широкоапертурного импульсного электронного пучка с током до 80 А и энергией до 35 кВ. Такая система представляет собой плазменно-оптическую систему диодного типа, в которой ускорение и формирование электронного пучка происходят в двойном слое между эмиссионной поверхностью плазменного катода (эмиттера электронов), закрытой мелкоструктурной сеткой, и открытой поверхностью анодной плазмы. Анодная плазма создаётся тороидальным генератором оригинальной конструкции, разработанной на основе ионного источника с замкнутым дрейфом электронов с анодным слоем. Доп.точки доступа: Бугаев, А. С.; Окс, Е. М. Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден) |