Салащенко, Н. Н. Проект изготовления российского ЭУФ-нанолитографа для производства СБИС по технологическим нормам 22 нм [Текст] / Н. Н. Салащенко, Н. И. Чхало> // Известия РАН. Серия физическая. - 2011. - Т. 75, N 1. - С. 49-53. : рис. - Библиогр.: с. 53 (12 назв. )
Рубрики: Физика Экспериментальные методы и аппаратура оптики Транспорт Транспортные сооружения Кл.слова (ненормированные): массовое производство -- нанолитографы -- наноэлектроника -- оптические элементы -- опытное производство -- отражательные маски -- проекты -- проекционная ЭУФ-литография -- промышленные сканеры -- фоторезисторы -- экстремальное ультрафиолетовое излучение Аннотация: Сообщается о разрабатываемом проекте создания отечественного нанолитографа с рабочей длиной волны лямбда=13. 5 нм для производства элементной базы наноэлектроники (чипов) по технологическим нормам 32-22 нм на первом этапе и 22-16 нм - на втором. Доп.точки доступа: Чхало, Н. И. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Стенд проекционного ЭУФ-нанолитографа-мультипликатора с расчетным разрешением 30 нм [Текст] / Д. Г. Волгунов [и др. ]> // Известия РАН. Серия физическая. - 2011. - Т. 75, N 1. - С. 54-56. : рис. - Библиогр.: с. 56 (10 назв. )
Рубрики: Физика Экспериментальные методы и аппаратура оптики Транспорт Транспортные сооружения Кл.слова (ненормированные): высокие технологии -- нанолитограф-мультипликатор -- наноэлектроника -- оптические элементы -- проекционная ЭУФ-литография -- разрешающая способность -- экстремальное ультрафиолетовое излучение Аннотация: Сообщается о созданном в ИФМ РАН стенде нанолитографа-мультипликатора с рабочей длиной волны 13, 5 нм и расчетным пространственным разрешением 30 нм. Доп.точки доступа: Волгунов, Д. Г.; Забродин, И. Г.; Закалов, Б. А.; Зуев, С. Ю.; Каськов, И. А.; Клюенков, Е. Б.; Пестов, А. Е.; Полковников, В. Н.; Салащенко, Н. Н.; Суслов, Л. А.; Торопов, М. Н.; Чхало, Н. И.; Учреждение Российской академии наук Институт физики микроструктур РАН; ИФМ РАН Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Двухзеркальный проекционный объектив нанолитографа на лямбда=13. 5 нм [Текст] / С. Ю. Зуев [и др. ]> // Известия РАН. Серия физическая. - 2011. - Т. 75, N 1. - С. 61-64. : рис. - Библиогр.: с. 64 (7 назв. )
Рубрики: Физика Экспериментальные методы и аппаратура оптики Транспорт Транспортные сооружения Кл.слова (ненормированные): асферические зеркала -- двухзеркальные объективы -- критерий Марешаля -- Марешаля критерий -- нанолитографы -- оптические элементы -- проекционная ЭУФ-литография -- проекционные объективы -- экстремальное ультрафиолетовое излучение Аннотация: Описывается проекционный объектив, состоящий из двух асферических зеркал, для стенда нанолитографа с рабочей длиной волны лямбда=13. 5 нм. Значительное внимание уделяется методам аттестации формы поверхности зеркал и аберраций объектива с субнанометровой точностью. Доп.точки доступа: Зуев, С. Ю.; Пестов, А. Е.; Салащенко, Н. Н.; Скрыль, А. С.; Струля, И. Л.; Суслов, Л. А.; Торопов, М. Н.; Чхало, Н. И. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Развитие микрошероховатости поверхности плавленого кварца и покрытий Cr/Sc при травлении ионными пучками [Текст] / Ю. А. Вайнер [и др. ]> // Известия РАН. Серия физическая. - 2011. - Т. 75, N 1. - С. 65-67. . - Библиогр.: с. 67 (5 назв. )
Рубрики: Физика Общие вопросы физики Кл.слова (ненормированные): критерий Марешаля -- малоугловая рентгеновская дифракция -- Марешаля критерий -- многослойные структуры -- оптические элементы -- плавленый кварц -- проекционная ЭУФ-литография -- травление ионными пучками -- шероховатость поверхности -- экстремальное ультрафиолетовое излучение Аннотация: Изучается поведение шероховатости поверхностей многослойной структуры Cr/Sc и плавленого кварца при ионно-пучковом травлении. Доп.точки доступа: Вайнер, Ю. А.; Зорина, М. В.; Пестов, А. Е.; Салащенко, Н. Н.; Чхало, Н. И.; Храмков, Р. А. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Источник экстремального ультрафиолетового излучения на основе плазмы, нагреваемой излучением миллиметрового диапазона [Текст] / А. В. Водопьянов [и др. ]> // Известия РАН. Серия физическая. - 2011. - Т. 75, N 1. - С. 68-70. . - Библиогр.: с. 70 (18 назв. )
Рубрики: Физика Оптика в целом Кл.слова (ненормированные): магнитные ловушки -- плазмогенераторы -- проекционная ЭУФ-литография -- экстремальное ультрафиолетовое излучение -- электромагнитное излучение -- электронно-циклотронный резонанс Аннотация: Обсуждается источник экстремального ультрафиолетового излучения на основе разряда низкого давления, поддерживаемого в магнитной ловушке мощным электромагнитным излучением на частоте 75 ГГц. Доп.точки доступа: Водопьянов, А. В.; Голубев, С. В.; Мансфельд, Д. А.; Салащенко, Н. Н.; Чхало, Н. И. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Эволюция распределения элементов в свободно висящих структурах Zr/ZrSi[2] с защитными слоями MoSi[2] и ZrSu[2] при отжиге [Текст] / М. Н. Дроздов [и др. ]> // Известия РАН. Серия физическая. - 2011. - Т. 75, N 1. - С. 80-83. . - Библиогр.: с. 83 (3 назв. )
Рубрики: Машиностроение Соединения деталей машин Кл.слова (ненормированные): вторично-ионная масс-спектрометрия -- магнетронное напыление -- многослойные структуры -- проекционная ЭУФ-литография -- свободно висящие структуры -- фильтры -- экстремальное ультрафиолетовое излучение Аннотация: Методом вторично-ионной масс-спектрометрии (ВИМС) проведен анализ распределения элементов по глубине в отожженных образцах многослойных ЭУФ-фильтров Zr/ZrSi[2] с защитными слоями MoSi[2] и ZrSu[2]. Доп.точки доступа: Дроздов, М. Н.; Дроздов, Ю. Н.; Клюенков, Е. Б.; Лопатин, А. Я.; Лучин, В. И.; Салащенко, Н. Н.; Цыбин, Н. Н.; Шмаенок, Л. А. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Формирование наноструктур на стенде ЭУФ-литографа-мультипликатора. Первые результаты [Текст] / Д. Г. Волгунов [и др.]> // Известия РАН. Серия физическая. - 2013. - Т. 77, № 1. - С. 4-8 : рис. - Библиогр.: с. 8 (23 назв. ) . - ISSN 0367-6765
Рубрики: Физика Физическая оптика Кл.слова (ненормированные): лабораторные стенды -- проекционная ЭУФ-литография -- экстремальное ультрафиолетовое излучение -- ЭУФ-литографы Аннотация: Демонстрируются первые литографические изображения в резистах, полученные с помощью метода проекционной литографии на длине волны 13. 5 нм. Приводятся данные по скоростям засветки фоторезиста и загрязнения поверхности коллектора. Анализируются факторы, ограничивающие пространственное разрешение проекционной схемы. Доп.точки доступа: Волгунов, Д. Г.; Пестов, А. Е.; Салащенко, Н. Н.; Торопов, М. Н.; Чхало, Н. И. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Лазерно-плазменный источник ЭУФ-излучения для проекционной нанолитографии [Текст] / С. Ю. Зуев [и др.]> // Известия РАН. Серия физическая. - 2013. - Т. 77, № 1. - С. 9-13 : рис. - Библиогр.: с. 13 (9 назв. ) . - ISSN 0367-6765
Рубрики: Физика Физическая оптика Кл.слова (ненормированные): виньетирование -- коэффициент конверсии энергии -- лазерная плазма -- лазерно-плазменный источник ЭУФ-излучения -- молибденовые мишени -- проекционная нанолитография -- экстремальное ультрафиолетовое излучение Аннотация: Сообщается о лабораторном источнике экстремального ультрафиолетового излучения на основе лазерной плазмы, оптимизированном для применения в исследовательском стенде нанолитографии на длине волны 13. 5 нм. Приводятся основные технические характеристики источника. При работе с молибденовой мишенью измеренный коэффициент конверсии энергии лазерного излучения в излучение с центральной длиной волны 13. 5 нм в полупространство и в 2%-ной спектральной полосе составил 0. 03%. Доп.точки доступа: Зуев, С. Ю.; Пестов, А. Е.; Салащенко, Н. Н.; Суслов, Л. А.; Торопов, М. Н.; Чхало, Н. И.; Щербаков, А. В. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Высокопрозрачные свободновисящие пленки для защиты маски от загрязнений в установках проекционной ЭУФ-литографии [Текст] / Б. А. Володин [и др.]> // Известия РАН. Серия физическая. - 2014. - Т. 78, № 1. - С. 82-85 : рис. - Библиогр.: c. 85 (7 назв. ) . - ISSN 0367-6765
Рубрики: Машиностроение Соединения деталей машин Кл.слова (ненормированные): защита от загрязнений -- защитные экраны -- маски ЭУФ-нанолитографа -- проекционная ЭУФ-литография -- сверхтонкие пленки -- экстремальное ультрафиолетовое излучение Аннотация: Продемонстрирована возможность изготовления сверхтонких свободновисящих пленок с повышенной прозрачностью на рабочей длине волны 13. 5 нм для применения в качестве защитного экрана маски в установках проекционной ЭУФ-литографии. Изготовлены и изучены образцы пленок толщиной 25-50 нм с апертурой до 80 мм нескольких видов: многослойные тонкопленочные структуры Mo/NbSi[2], Mo/ZrSi[2] и Si с пропусканием 84-86% на длине волны 13. 5 нм. Достигнутые результаты дают основания надеяться, что развитие методики изготовления свободновисящих сверхтонких пленок позволит удовлетворить требованиям, предъявляемым к защитному экрану. Доп.точки доступа: Володин, Б. А.; Клюенков, Е. Б.; Лопатин, А. Я.; Лукьянов, А. Ю.; Лучин, В. И.; Пестов, А. Е.; Салащенко, Н. Н.; Цыбин, Н. Н.; Шмаенок, Л. А. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Применение ионно-пучкового травления для "сглаживания" поверхности плавленого кварца [Текст] / Ю. А. Вайнер [и др.]> // Известия РАН. Серия физическая. - 2014. - Т. 78, № 1. - С. 90-94. - Библиогр.: c. 94 (7 назв. ) . - ISSN 0367-6765
Рубрики: Физика Общие вопросы физики Кл.слова (ненормированные): глубокая шлифовка-полировка -- ионно-пучковое травление -- мягкое рентгеновское излучение -- плавленый кварц -- сглаживание шероховатостей -- шероховатости -- экстремальное ультрафиолетовое излучение Аннотация: Приведены результаты исследований шероховатости подложек из плавленого кварца, кремния и сапфира от разных производителей. Обсуждается специфика подложек для изображающей оптики, предназначенной для работы в диапазонах мягкого рентгеновского (МР) и экстремального ультрафиолетового излучения (ЭУФ). Приведены первые результаты по сглаживанию шероховатостей, полученные при травлении кварцевых подложек нейтрализованными пучками аргона с энергией 50-500 эВ. Продемонстрировано сглаживание шероховатости поверхности в диапазоне пространственных частот 10{-1} - 10{2} мкм{-1}. Доп.точки доступа: Вайнер, Ю. А.; Зорина, М. В.; Пестов, А. Е.; Салащенко, Н. Н.; Чхало, Н. И. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Конверсия энергии электронов в ЭУФ-излучение K[альфа]-линии Be в "прострельной" геометрии [Текст] / А. Я. Лопатин [и др.]> // Журнал экспериментальной и теоретической физики. - 2018. - Т. 154, вып. 6. - С. 1067-1076. - Библиогр. в конце статьи . - ISSN 0044-4510
Рубрики: Физика Теоретическая физика Кл.слова (ненормированные): Монте-Карло метод -- ЭУФ-излучение -- метод Монте-Карло -- экстремальное ультрафиолетовое излучение -- электроны -- энергия электронов Аннотация: Описаны модель и результаты теоретических расчетов взаимодействия ускоренных электронов с атомами тонкопленочной "прострельной" мишени из бериллия. Доп.точки доступа: Лопатин, А. Я.; Парьев, Д. Е.; Пестов, А. Е.; Салащенко, Н. Н.; Чхало, Н. И.; Демин, Г. Д.; Дюжев, Н. А.; Махиборода, М. А.; Кочетков, А. А. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Абрамов, И. С. Источник экстремального ультрафиолетового излучения на основе разряда, поддерживаемого импульсом излучения терагерцевого лазера на свободных электронах [Текст] / И. С. Абрамов, Е. Д. Господчиков, А. Г. Шалашов> // Журнал экспериментальной и теоретической физики. - 2021. - Т. 159, вып. 2. - С. 270-280. - Библиогр.: с. 280 (38 назв.) . - ISSN 0044-4510
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Кл.слова (ненормированные): ЭУФ-излучение -- генерация излучения -- импульсы излучения -- плазма -- терагерцевое излучение -- экстремальное ультрафиолетовое излучение Аннотация: Обсуждается возможность поддержания разряда в ксеноне, эффективно излучающем свет в определенном диапазоне длин волн субнаносекундным импульсом терагерцевого излучения. Проведено моделирование такого разряда для параметров, характерных для экспериментов с использованием современных лазеров на свободных электронах в качестве источников мощного терагерцевого излучения. Доп.точки доступа: Господчиков, Е. Д.; Шалашов, А. Г. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : н.з. (1) Свободны: н.з. (1) |