Фавини, К. Фоторезисты фирмы Elga Europe [Текст] : выбор, применение / К. Фавини, Н. Короткова // Электроника: наука, технология, бизнес. - 2008. - N 6. - С. 48-52 . - ISSN 1992-4178
Рубрики: Радиоэлектроника Электроника в целом Кл.слова (ненормированные): фоторезисты -- фирмы -- плоские профильные детали -- печатные платы -- пленочные фоторезисты -- пеногасители Аннотация: Представлены фоторезисты фирмы Elga Europe, которые с успехом используются для сквозного травления при изготовлении плоских профильных деталей. Доп.точки доступа: Короткова, Н.; Elga Europe, фирма Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : эн.ф. (1) Свободны: эн.ф. (1) |
Растворимые циклополимеры на основе 1, 1, 2, 3, 3-пентафтор-4- (1, 1, 1, 3, 3, 3-гексафтор-2-гидрокси-2пропил) -1, 6-гептадиена: синтез и химические превращения [Текст] / А. Я. Вайнер [и др. ] // Доклады Академии наук. - 2010. - Т. 435, N 1, ноябрь. - С. 49-52. . - Библиогр.: с. 52 (15 назв. )
Рубрики: Химия Химия высокомолекулярных соединений Кл.слова (ненормированные): полимеры -- циклополимеры -- химические превращения -- синтез полимеров -- нанолитография -- растворимые циклополимеры -- фоторезисты Аннотация: Предложена новая стратегия дизайна и синтеза полимеров для нанолитографии, адекватных технологий с экспонирующим излучением на длине волны 193 нм и позволяющих реализовать микросхемы с 65-нанометровыми топологическими нормами. Доп.точки доступа: Вайнер, А. Я.; Дюмаев, К. М.; Еремина, Л. А.; Зеликсон, К. И.; Пинчук, Е. М.; Штурман, М. Н. Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден) |
Новые полифенолы флуоренового ряда и позитивные фоторезисты на их основе для 22-нанометровой литографии [Текст] / А. Я. Вайнер [и др.] // Доклады Академии наук. - 2012. - Т. 442, № 2. - С. 195-199. - Библиогр.: с. 199 . - ISSN 0869-5652
Рубрики: Химия Фотохимия Кл.слова (ненормированные): экстремальная ультрафиолетовая нанолитография -- полифенолы -- пленкообразующие свойства соединений Аннотация: Предложена новая стратегия синтеза полифенольных производных флуорена в качестве основы позитивных резистов для нанометровой литографии. Доп.точки доступа: Вайнер, А. Я.; Дюмаев, К. М.; Коваленко, А. М.; Давидович, М. З.; Зеликсон, К. И.; Пинчук, Е. М. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Синтез, термо- и фотохимические реакции ненасыщенных флуоренсодержащих ароматических простых полиэфиров с боковыми трифторметилдиазириновыми группами [Текст] / А. Я. Вайнер [и др.] // Доклады Академии наук. - 2012. - Т. 445, № 5, август. - С. 548-552 : 4 схемы, 1 табл. - Библиогр. : с. 552 (15 назв.) . - ISSN 0869-5652
Рубрики: Химия Физическая химия в целом Кл.слова (ненормированные): ароматические полиэфиры -- кардовые бисфенолы -- термостойкие фоторезисты -- полимеры -- негативные фоторезисты -- фотохимические превращения полимеров -- термохимические превращения полимеров Аннотация: Предложена стратегия синтеза ненасыщенных флуоренсодержащих ФАПЭ с боковыми трифторметилдиазириновыми группами. Доп.точки доступа: Вайнер, А. Я.; Дюмаев, К. М.; Мареева, С. А.; Драгунская, Р. М.; Ефимова, Н. В.; Слюсаренко, З. А. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |