> Шифр: mmka/2007/3 Журнал 2007г. N 3 Лутцева, В. А. Уральский сказ о Lean / В. А. Лутцева. - 4-7. Окончание следует Кл.слова: ЛИН-ШКОЛА, ОРГАНИЗАЦИЯ ПРОИЗВОДСТВЕННОГО ПРОЦЕССА, TOYOTA, КОМПАНИЯ Мельникова, Е. В. Улучшения в стиле кайдзен / Е. В. Мельникова. - С.8-11 Кл.слова: ГЕМБА, КАЙДЗЕН (КОНЦЕПЦИЯ ), КАЧЕСТВО МЕНЕДЖМЕНТА Герасимов, Е. Ю. Разработка системы бизнес-процессов для поддержания сбалансированной системы показателей / Е. Ю. Герасимов. - С.12-20: табл. Кл.слова: БИЗНЕС-ПРОЦЕССЫ СТРАТЕГИЧЕСКИЕ, СБАЛАНСИРОВАННАЯ СИСТЕМА ПОКАЗАТЕЛЕЙ, УПРАВЛЕНИЕ ПРЕДПРИЯТИЕМ Ивлев, В. А. Разработка и внедрение системы управленческого учета по местам возникновения затрат / В. А. Ивлев, Т. В. Попова. - 21-27: схемы Кл.слова: УПРАВЛЕНЧЕСКИЙ УЧЕТ, УЧЕТ ЗАТРАТ, МЕСТО ВОЗНИКНОВЕНИЕ ЗАТРАТ (МВЗ), КОТЛОВОЙ МЕТОД УЧЕТА Калабушкин, Д. А. Еще раз о корректирующих действиях в строительстве / Д. А. Калабушкин, П. А. Стекольщиков. - С.28-32 Кл.слова: СИСТЕМЫ МЕНЕДЖМЕНТА КАЧЕСТВА, СТАНДАРТЫ В СТРОИТЕЛЬСТВЕ, КОРРЕКТИРУЮЩИЕ ДЕЙСТВИЯ Брагин, Ю. В. Робастная оптимизация производственного процесса / Ю. В. Брагин. - С.35-41 Кл.слова: МЕТОД ТАГУТИ, РОБАСТНОЕ ПРОЕКТИРОВАНИЕ, ФОТОЛИТОГРАФИЯ Колесников, А. А. Менеджмент качества проектов при создании телекоммуникационных систем / А. А. Колесников. - С.42-44. - Библиогр. в конце ст. Кл.слова: СИСТЕМЫ МЕНЕДЖМЕНТА КАЧЕСТВА, ТЕЛЕКОММУНИКАЦИОННЫЕ ПРОЕКТЫ, УПРАВЛЕНИЕ ПРОЕКТАМИ Кузьмин, А. М. Модель Кано / А. М. Кузьмин. - С.33 Кл.слова: ТЕОРИЯ ПРИВЛЕКАТЕЛЬНОСТИ КАЧЕСТВА, МОДЕЛЬ КАНО, ПРИОРИТЕТНЫЕ ПОТРЕБНОСТИ Свиткин, М. З. Организационно-методические аспекты корпоративной культуры / М. З. Свиткин. - С.46-49 Кл.слова: КОРПОРАТИВНАЯ КУЛЬТУРА, ФАКТОРЫ ФОРМИРОВАНИЯ, КОРПОРАТИВНАЯ КУЛЬТУРА, РОЛЬ ВЫСШЕГО РУКОВОДСТВА Откажитесь от хмурых бровей : подготовил В. Алексеев. - С.50-51 Кл.слова: АУДИТ, ФОРМА ПРЕДОСТАВЛЕНИЕ РЕЗУЛЬТАТОВ, СИСТЕМЫ МЕНЕДЖМЕНТА КАЧЕСТВА, СБАЛАНСИРОВАННЫЕ НАБЛЮДЕНИЯ Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : эк. (1) Свободны: эк. (1) |
Белокопытов, Г. В. Сравнение характеристик изображения в проекционной фотолитографии [Текст] / Г. В. Белокопытов, Ю. В. Рыжикова> // Известия РАН. Серия физическая. - 2008. - Т. 72, N 1. - С. 88-91. - Библиогр.: c. 91 (6 назв. )
Рубрики: Физика Ультрафиолетовые лучи Кл.слова (ненормированные): численное моделирование -- фотолитография -- критические размеры -- численная апертура -- круговая апертура -- когерентность -- проекционная фотолитография -- бинарная маска -- фазовая маска -- характеристики изображения Аннотация: Путем численного моделирования проведено сравнение характеристик изображений, создаваемых некоторыми типичными фотошаблонами. Рассмотрена методика оценки критических размеров элементов изображения. Доп.точки доступа: Рыжикова, Ю. В. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : з.п. (1) Свободны: з.п. (1) |
Агейченко, А. Современные методы упаковки интегральных схем [Текст]. Ч. 1. Фотолитография и оборудование / А. Агейченко> // Электроника: наука, технология, бизнес. - 2008. - N 4. - С. 98-102. - Библиогр.: с. 102 (6 назв. )
Рубрики: Радиоэлектроника Электроника в целом Кл.слова (ненормированные): интегральные схемы -- ИС -- фотолитография -- методы упаковки -- технологии упаковки Аннотация: Описана технология упаковки ИС, в которой используется фотолитографическое оборудование, которое раньше применялось при создании собственно полупроводникового кристалла. Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден) |
Агейченко, А. Современные методы упаковки интегральных схем [Текст]. Ч. 2. Фотолитография и оборудование / А. Агейченко> // Электроника: наука, технология, бизнес. - 2008. - N 6. - С. 54-59 . - ISSN 1992-4178
Рубрики: Радиоэлектроника Электроника в целом Кл.слова (ненормированные): интегральные схемы -- упаковка интегральных схем -- фотолитография -- степперы -- плотность упаковки -- полупроводниковые пластины -- печатные платы -- фотолиграфическое оборудование Аннотация: Возрастающие требования к плотности упаковки интегральных схем стимулируют переход от контактных методов переноса изображения топологии в передовой упаковке к использованию проекционных методов переноса изображения - степперов. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : эн.ф. (1) Свободны: эн.ф. (1) |
Ренкель, А. Литография - неожиданное изобретение [Текст] / А. Ренкель> // Интеллектуальная собственность: Промышленная собственность. - 2007. - N 6. - С. 68-72.
Рубрики: Право--Россия Правовая охрана интеллектуальной собственности Кл.слова (ненормированные): интеллектуальная собственность -- изобретатели -- литография -- книгопечатание -- машинное вязание -- фотолитография Аннотация: История изобретения литографии. Доп.точки доступа: Иоганн, Гутенберг; Алоиз, Зенефельдер Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : пат. (1) Свободны: пат. (1) |
Лазерная литография. Коррекция формы субмикронных элементов [Текст] / С. Аваков [и др. ]> // Электроника: наука, технология, бизнес. - 2009. - N 8. - С. 82-85. - Библиогр.: с. 85 (5 назв. ) . - ISSN 1992-4178
Рубрики: Физика Физическая оптика Кл.слова (ненормированные): лазерная литография -- фотолитография -- топологические элементы -- фоторезист -- оптический эффект близости -- фотошаблоны -- интегральные схемы Аннотация: Предлагаемый авторами метод основан на использовании структур компенсации оптического эффекта близости. Результаты получены на первой отечественной производственной линии, позволяющей изготавливать оригиналы топологии интегральных схем технологического уровня 350 нм. Доп.точки доступа: Аваков, С.; Беспалов, В.; Овчинников, В.; Пушкин, Л.; Титко, Е. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : эн.ф. (1) Свободны: эн.ф. (1) |
Корешев, С. Н. Восстановление синтезированных голограмм-проекторов Френеля при углах падения восстанавливающей волны, превышающих угол падения опорной волны при синтезе голограммы [Текст] / С. Н. Корешев, О. В. Никаноров, В. П. Ратушный> // Оптика и спектроскопия. - 2011. - Т. 111, N 1. - С. 143-148. . - Библиогр.: с. 148 (4 назв. )
Рубрики: Физика Физическая оптика Кл.слова (ненормированные): голограммы-проекторы Френеля -- Френеля голограммы-проекторы -- углы падения -- синтез голограмм -- опорные волны -- проекционная фотолитография Аннотация: Показана возможность безаберрационного восстановления синтезированной голограммы-проектора Френеля при углах падения восстанавливающей плоской волны, превышающих угол падения плоской опорной волны при синтезе голограммы. Выявлен и математически описан характер зависимости допустимых углов падения восстанавливающей волны от параметров синтеза голограмм-проекторов. Доп.точки доступа: Никаноров, О. В.; Ратушный, В. П. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Трапашко, Г. Контроль микроразмеров в производстве ИС [Текст] : задачи и особенности / Г. Трапашко> // Электроника: наука, технология, бизнес. - 2011. - N 3. - С. 96-103. . - Библиогр.: с. 103 (10 назв. )
Рубрики: Радиоэлектроника Электроника в целом Кл.слова (ненормированные): интегральные схемы -- микросхемы -- фотолитография -- полупроводниковые приборы -- полупроводниковые пластины -- кремниевые пластины Аннотация: Фотолитография - ключевой технологический процесс в производстве полупроводниковых приборов и микросхем. Суть процесса заключается в переносе оригинала топологии интегральной схемы на поверхность полупроводниковой пластины. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : эн.ф. (1) Свободны: эн.ф. (1) |
Мастеров, Д. В. Технология изготовления пассивных устройств ВЧ и СВЧ-диапазонов на основе пленок высокотемпературного сверхпроводника YBCO. Параметры тестовых элементов [Текст] / Д. В. Мастеров, С. А. Павлов, А. Е. Парафин> // Известия РАН. Серия физическая. - 2012. - Т. 76, № 2. - С. 169-171. - Библиогр.: c. 171 (4 назв. ) . - ISSN 0367-6765
Рубрики: Физика Общие вопросы физики Кл.слова (ненормированные): взрывная литография -- высокотемпературные сверхпроводники -- лабораторные технологии -- магнетронное напыление -- мокрое химическое травление -- пленки YBCO -- термическое напыление серебра -- фильтры ВЧ-диапазоны -- фильтры СВЧ-диапазонов -- фотолитография Аннотация: В статье приведены результаты измерений резонаторов и фильтров ВЧ- и СВЧ-диапазонов, изготовленных на основе пленок YBCO. Характеристики изготовленных устройств, соответствующие мировому уровню, демонстрируют возможности лабораторной технологии, разработанной в ИФМ РАН. Доп.точки доступа: Павлов, С. А.; Парафин, А. Е.; ИФМ РАН; Учреждение Российской академии наук Институт физики микроструктур РАН Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Плебанович, В. Фотолитография [Текст] : решение проблемы прецизионного совмещения слоев после эпитаксии / В. Плебанович, Л. Сятковский, С. Воронин> // Электроника: наука, технология, бизнес. - 2012. - № 1. - С. 100-102 . - ISSN 1992-4178
Рубрики: Радиоэлектроника Электроника в целом Кл.слова (ненормированные): фотолитография -- интегральные микросхемы -- эпитаксия -- плазмохимическое травление Аннотация: Описано решение проблемы прецизионного совмещения слоев после эпитаксии с помощью метода фотолитографии. Доп.точки доступа: Сятковский, Л.; Воронин, С. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : эн.ф. (1) Свободны: эн.ф. (1) |
Прецизионная изображающая многослойная оптика [Текст] / М. М. Барышева [и др.]> // Успехи физических наук. - 2012. - Т. 182, № 7. - С. 727-747 : 16 рис., 6 табл. - Библиогр.: с. 745-747 (126 назв.) . - ISSN 0042-1294
Рубрики: Физика Рентгеновские лучи. Гамма-лучи Физическая оптика Кл.слова (ненормированные): многослойная оптика -- электромагнитные поля -- рентгеновская микроскопия -- ультрафиолетовое излучение -- рентгеновская оптика -- фотолитография -- оптические системы Аннотация: Работа посвящена фундаментальным проблемам изготовления и тестирования, а также применениям в диапазоне длин волн 2-60 нм оптики, обеспечивающей дифракционное качество изображений и востребованной для проекционной литографии, рентгеновской микроскопии, астрофизики и для фундаментальных исследований в области взаимодействия вещества (вакуума) со сверхсильными электромагнитными полями. Доп.точки доступа: Барышева, М. М.; Пестов, А. Е.; Салащенко, Н. Н.; Торопов, М. Н.; Чхало, Н. И. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Обеспечение равной интенсивности элементов изображений бинарных объектов, восстанавливаемых с помощью синтезированных голограмм-проекторов [Текст] / С. Н. Корешев [и др.]> // Оптика и спектроскопия. - 2013. - Т. 114, № 2. - С. 318-323 : граф., ил. - Библиогр.: с. 323 (12 назв.) . - ISSN 0030-4034
Рубрики: Физика Физическая оптика Кл.слова (ненормированные): бинарные объекты -- голограммы-проекторы -- голографическая фотолитография -- голографические поля -- двумерные объекты -- проекция изображений -- синтезированные голграммы -- элементы изображений Аннотация: Исследовано влияние нелинейности синтезированных голограмм-проекторов на зависимость интенсивности восстановленных с их помощью изображений от размера последних. Доп.точки доступа: Корешев, С. Н.; Смородинов, Д. С.; Никаноров, О. В.; Громов, А. Д. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Новожилов, А. Микрофлюидные бумажные сенсоры – "Лаборатория на чипе" [Текст] / А. Новожилов, А. Сафонов> // Электроника: наука, технология, бизнес. - 2015. - № 2. - С. 80-90 . - ISSN 1992-4178
Рубрики: Радиоэлектроника Электроника в целом Кл.слова (ненормированные): компании -- микрофлюидные бумажные сенсоры -- микрофлюидные сенсоры -- фотолитография Аннотация: Описаны методы изготовления и анализа микрофлюидных сенсоров на бумажной основе, позволяющие адаптировать их с учетом потребностей конечного пользователя и целей, которые должны быть достигнуты с их помощью. Доп.точки доступа: Сафонов, А. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : эн.ф. (1) Свободны: эн.ф. (1) |
Плебанович, В. Двухсторонняя литография – решение проблемы отвода тепла и разводки межсоединений в ИМС [Текст] / В. Плебанович> // Электроника: наука, технология, бизнес. - 2015. - № 4. - С. 64-68 . - ISSN 1992-4178
Рубрики: Радиоэлектроника Электроника в целом Кл.слова (ненормированные): ИМС -- СВЧ-усилители мощности -- двухсторонняя литография -- драйверы -- интегральные микросхемы -- настольные степперы -- теплогенерирующие элементы -- теплоотводящие каналы -- фотолитография Аннотация: Предложен способ двухсторонней литографии для создания теплоотводящих каналов на непланарной стороне подложки и обеспечения высокой точности совмещения элементов на обеих ее сторонах. Поясняется, как реализовать этот процесс на оборудовании, имеющемся на современном производстве ИМС. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : эн.ф. (1) Свободны: эн.ф. (1) |