Салащенко, Н. Н. (чл.-кор. РАН). Коротковолновая проекционная нанолитография [Текст] / Н. Н. Салащенко, Н. И. Чхало> // Вестник Российской академии наук. - 2008. - Т. 78, N 5. - С. 450-457 : 6 рис. - Библиогр.: с. 456-457 (31 назв. )
Рубрики: Полиграфическая промышленность Плоская печать Кл.слова (ненормированные): диапазоны коротковолновые -- диапазоны ультрафиолетовые -- коротковолновые диапазоны -- микроэлектронная промышленность -- нанолитография -- нанолитография проекционная -- области спектра -- проекционная нанолитография -- промышленность микроэлектронная -- спектры -- ультрафиолетовые диапазоны Аннотация: На одном из заседаний Президиума РАН рассматривались проводимые в Институте физики микроструктур РАН работы по нанолитографии в ультракороткой области спектра, которым и посвящена публикуемая ниже статья. Результаты этих работ, по мнению участников заседания, можно реально использовать для возрождения отечественной микроэлектронной промышленности. Доп.точки доступа: Чхало, Н. И. (канд. физ.-матем. наук) Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Лазерно-плазменный источник ЭУФ-излучения для проекционной нанолитографии [Текст] / С. Ю. Зуев [и др.]> // Известия РАН. Серия физическая. - 2013. - Т. 77, № 1. - С. 9-13 : рис. - Библиогр.: с. 13 (9 назв. ) . - ISSN 0367-6765
Рубрики: Физика Физическая оптика Кл.слова (ненормированные): виньетирование -- коэффициент конверсии энергии -- лазерная плазма -- лазерно-плазменный источник ЭУФ-излучения -- молибденовые мишени -- проекционная нанолитография -- экстремальное ультрафиолетовое излучение Аннотация: Сообщается о лабораторном источнике экстремального ультрафиолетового излучения на основе лазерной плазмы, оптимизированном для применения в исследовательском стенде нанолитографии на длине волны 13. 5 нм. Приводятся основные технические характеристики источника. При работе с молибденовой мишенью измеренный коэффициент конверсии энергии лазерного излучения в излучение с центральной длиной волны 13. 5 нм в полупространство и в 2%-ной спектральной полосе составил 0. 03%. Доп.точки доступа: Зуев, С. Ю.; Пестов, А. Е.; Салащенко, Н. Н.; Суслов, Л. А.; Торопов, М. Н.; Чхало, Н. И.; Щербаков, А. В. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |