Новые полифенолы флуоренового ряда и позитивные фоторезисты на их основе для 22-нанометровой литографии [Текст] / А. Я. Вайнер [и др.] // Доклады Академии наук. - 2012. - Т. 442, № 2. - С. 195-199. - Библиогр.: с. 199 . - ISSN 0869-5652
Рубрики: Химия Фотохимия Кл.слова (ненормированные): экстремальная ультрафиолетовая нанолитография -- полифенолы -- пленкообразующие свойства соединений Аннотация: Предложена новая стратегия синтеза полифенольных производных флуорена в качестве основы позитивных резистов для нанометровой литографии. Доп.точки доступа: Вайнер, А. Я.; Дюмаев, К. М.; Коваленко, А. М.; Давидович, М. З.; Зеликсон, К. И.; Пинчук, Е. М. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |