Особенности создания центров окраски при отжиге кристаллов LiF, облученных ионами Kr с энергией 150 МэВ [Текст] / А. Т. Акилбеков [и др.] // Известия РАН. Серия физическая. - 2014. - Т. 78, № 6. - С. 738-742. - Библиогр.: c. 742 (28 назв. ) . - ISSN 0367-6765
Рубрики: Энергетика Ядерные реакторы Кл.слова (ненормированные): быстрые тяжелые ионы -- кристаллы LiF -- облучение ионами Kr -- термический отжиг -- центры окраски Аннотация: Экспериментально исследовано влияние термических отжигов на F- и F[n]-центры окраски для кристаллов LiF, облученных ионами Kr с энергией 150 МэВ, в зависимости от флюенсов и ионных токов. Установлено, что отжиг при температуре 400 K для кристаллов, облученных флюенсом > или равно10{13} ион/см{2}, приводит к уменьшению F-центров (за счет аннигиляции с H-центрами) и к увеличению комплексных F[n]-центров. Доп.точки доступа: Акилбеков, А. Т.; Русакова, А. В.; Даулетбекова, А. К.; Колобердин, М. В.; Байжуманов, М. Ж.; Здоровец, М. В. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |