Анализ изображения объектива для формирования наноструктур методом компьютерной изофотометрии [Текст] / М. И. Бакаев [и др. ] // Оптика и спектроскопия. - 2010. - Т. 109, N 3. - С. 504-511. . - Библиогр.: с. 511 (22 назв. )
Рубрики: Физика Геометрическая оптика. Оптические приборы Экспериментальные методы и аппаратура оптики Кл.слова (ненормированные): нанолитографы -- наноструктуры -- компьютерная изофотометрия -- функции рассеяния точки -- проекционные объективы -- двухзеркальные объективы -- объективы шварцшильдского типа -- метод компьютерной изофотометрии Аннотация: В работе рассмотрены возможности использования метода компьютерной изофотометрии для оценки качества изображения проекционных объективов высокого разрешения. Доп.точки доступа: Бакаев, М. И.; Жевлаков, А. П.; Орлов, П. В.; Вознесенский, Н. Б.; Гаврилов, Е. В.; Кирилловский, В. К. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Салащенко, Н. Н. Проект изготовления российского ЭУФ-нанолитографа для производства СБИС по технологическим нормам 22 нм [Текст] / Н. Н. Салащенко, Н. И. Чхало // Известия РАН. Серия физическая. - 2011. - Т. 75, N 1. - С. 49-53. : рис. - Библиогр.: с. 53 (12 назв. )
Рубрики: Физика Экспериментальные методы и аппаратура оптики Транспорт Транспортные сооружения Кл.слова (ненормированные): массовое производство -- нанолитографы -- наноэлектроника -- оптические элементы -- опытное производство -- отражательные маски -- проекты -- проекционная ЭУФ-литография -- промышленные сканеры -- фоторезисторы -- экстремальное ультрафиолетовое излучение Аннотация: Сообщается о разрабатываемом проекте создания отечественного нанолитографа с рабочей длиной волны лямбда=13. 5 нм для производства элементной базы наноэлектроники (чипов) по технологическим нормам 32-22 нм на первом этапе и 22-16 нм - на втором. Доп.точки доступа: Чхало, Н. И. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Двухзеркальный проекционный объектив нанолитографа на лямбда=13. 5 нм [Текст] / С. Ю. Зуев [и др. ] // Известия РАН. Серия физическая. - 2011. - Т. 75, N 1. - С. 61-64. : рис. - Библиогр.: с. 64 (7 назв. )
Рубрики: Физика Экспериментальные методы и аппаратура оптики Транспорт Транспортные сооружения Кл.слова (ненормированные): асферические зеркала -- двухзеркальные объективы -- критерий Марешаля -- Марешаля критерий -- нанолитографы -- оптические элементы -- проекционная ЭУФ-литография -- проекционные объективы -- экстремальное ультрафиолетовое излучение Аннотация: Описывается проекционный объектив, состоящий из двух асферических зеркал, для стенда нанолитографа с рабочей длиной волны лямбда=13. 5 нм. Значительное внимание уделяется методам аттестации формы поверхности зеркал и аберраций объектива с субнанометровой точностью. Доп.точки доступа: Зуев, С. Ю.; Пестов, А. Е.; Салащенко, Н. Н.; Скрыль, А. С.; Струля, И. Л.; Суслов, Л. А.; Торопов, М. Н.; Чхало, Н. И. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Сравнительное тестирование свободно висящих многослойных фильтров Mo/ZrSi[2] и Mo/NbSi[2] по термостабильности [Текст] / М. Н. Дроздов [и др.] // Известия РАН. Серия физическая. - 2013. - Т. 77, № 1. - С. 94-96. - Библиогр.: с. 96 (5 назв. ) . - ISSN 0367-6765
Рубрики: Химия Физическая химия в целом Кл.слова (ненормированные): вторично-ионная масс-спектрометрия -- многослойные фильтры -- свободно висящие фильтры -- термическая стабильность -- термически стойкие фильтры -- тонкопленочные фильтры -- ЭУФ-нанолитографы Аннотация: Изучена термическая стабильность многослойных тонкопленочных фильтров Mo/ZrSi[2] и Mo/NbSi[2] в температурном интервале 840-940°C при долговременном нагреве в вакууме. До и после лазерного или токового отжига измерялось пропускание фильтра и проводился послойный ВИМС-анализ структуры. Сравнительное тестирование показало, что структура Mo/NbSi[2] менее термостабильна при высоких тепловых нагрузках. Доп.точки доступа: Дроздов, М. Н.; Клюенков, Е. Б.; Лопатин, А. Я.; Лучин, В. И.; Пестов, А. Е.; Салащенко, Н. Н.; Цыбин, Н. Н.; Чхало, Н. И.; Шмаенок, Л. А. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |