Исследование методом фотоотражения полуизолирующих подложек GaAs, обработанных плазменным травлением [Текст] / Л. П. Авакянц [и др. ] // Известия РАН. Серия физическая. - 2008. - Т. 72, N 7. - С. 995-998. . - Библиогр.: c. 998 (11 назв. )
Рубрики: Физика Электростатика Кл.слова (ненормированные): полуизолирующие подложки GaAs -- ионно-плазменное травление -- поверхности -- спектроскопия фотоизображения -- электронный циклотронный резонанс -- спектры фотоотражения -- Франца-Келдыша осциллиции -- осциллиции Франца-Келдыша -- экспериментальные данные -- моделирование Аннотация: Методом спектроскопии фотоизображения исследованы полуизолирующие подложки GaAs с ориентацией поверхности (100), подвергнутые ионно-плазменному травлению различного типа. Доп.точки доступа: Авакянц, Л. П.; Боков, П. Ю.; Григорьев, А. Т.; Червяков, А. В. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |
Назаров, Е. Производители РЭА голосуют за технологию внутреннего монтажа [Текст] / Е. Назаров // Электроника: наука, технология, бизнес. - 2009. - N 3. - С. 58-64. . - Библиогр.: с. 64 (3 назв. )
Рубрики: Радиоэлектроника Электроника в целом Кл.слова (ненормированные): печатные платы -- монтаж кристаллов -- вакуумное напыление -- кремниевые подложки -- СВЧ-кристаллы -- ионно-плазменное травление Аннотация: Радикальной мерой по спасению радиоэлектронной отрасли является внедрение технологии внутреннего монтажа функциональных узлов и переработка реальных схемотехнических решений во внутрисмонтированное исполнение. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : эн.ф. (заказ статей по ЭДД) (1) Свободны: эн.ф. (заказ статей по ЭДД) (1) |
Влияние отвердителя каталитического действия на морфологию микроструктуры эпоксидных углепластиков [Текст] / А. И. Гуляев [и др.] // Материаловедение. - 2015. - № 5. - С. 41-46 . - ISSN 1684-579Х
Рубрики: Химия Химия высокомолекулярных соединений Кл.слова (ненормированные): дифференциальная сканирующая калориметрия -- ионно-плазменное травление -- микрофазное расслоение -- отверждение олигомеров -- растровая электронная микроскопия -- углепластики -- эпоксидные углепластики Аннотация: Методом растровой электронной микроскопии (РЭМ) с применением ионно-плазменного травления исследована морфология микроструктуры эпоксидных углепластиков. Показано, что применение отвердителя каталитического действия (комплекса бензиламина с трифторидом бора) влияет не только на скорость химической реакции отверждения, но и на механизм фазового расслоения и степень его незавершенности, что обуславливает морфологические особенности микроструктуры полимерной матрицы. Результаты исследования характеристик процесса отверждения методом дифференциальной сканирующей калориметрии (ДСК) позволили подтвердить механизм формирования микроструктуры исследуемых систем. Доп.точки доступа: Гуляев, А. И.; Журавлева, П. Л.; Филонова, Е. В.; Антюфеева, Н. В. Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден) |