Главная Упрощенный режим Описание Шлюз Z39.50
Авторизация
Фамилия
Пароль
 

Базы данных


БД "Статьи" - результаты поиска

Вид поиска
БД "Книги"
БД "Статьи"
Труды АМГУ
Выпускные квалификационные работы
Антитеррор
Область поиска
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>A=Никитин, М. М.$<.>)
Общее количество найденных документов : 2
Показаны документы с 1 по 2
1.


    Никитин, М. М.
    Вакуумный анодный разряд как источник ионизированных потоков материала покрытия [Текст] / М. М. Никитин // Известия РАН. Серия физическая. - 2010. - Т. 74. N 2. - С. 306-312. - Библиогр.: с. 312 (13 назв. ) . - ISSN 0367-6765
УДК
^a539.9
^a621.793
ББК 22.3 + 34.64
Рубрики: Физика
   Общие вопросы физики
   Машиностроение
   Соединения деталей машин
Кл.слова (ненормированные):
анодные испарители -- анодные разряды -- вакуумный анодный разряд -- дуговые анодные испарители -- ионизация плазмы -- катодные разряды -- метод вакуумного напыления -- микрокапельная фаза -- низкоэнергетические ионы -- покрытия -- термоэлектродные катоды
Аннотация: Катодные и анодные разряды - эффективный источник ионизованных потоков материала покрытия. Особый интерес представляет использование анодных разрядов, в частности, разрядов с термоэлектронным катодом. Разряд обеспечивает в условиях высокого вакуума потоки с регулируемой ионизацией без микрокапельной фазы. Исследованы условия возбуждения и характеристики разряда в интервале напряжений от 50 до 500 В при токах до 5 А. Рассмотрено влияние вакуума, межэлектродного расстояния и температуры нагрева катода. Определены условия получения потоков осаждаемого материала с максимальной ионизацией.


Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1)
Свободны: ч.з. (1)

Найти похожие
2.


    Никитин, М. М.
    Магнетронное распыление: эволюция схем напыления и ионизация потоков, взаимодействующих с подложкой [Текст] / М. М. Никитин // Физика и химия обработки материалов. - 2011. - N 2. - С. 27-36.
УДК
^a621.77.016
ББК 34.51/59
Рубрики: Машиностроение
   Обработка металлов
Кл.слова (ненормированные):
магнетронное распыление -- ионно-активированное напыление -- плазменные потоки -- подложки -- металлические пленки -- композиционные пленки
Аннотация: Рассмотрено развитие методики ионно-активированного напыления с использованием магнетронных источников распыления с целью расширения плазменного потока в направлении подложки и повышения соотношения ион-атом. Обсуждены возможности использования магнитных полей для формирования плазменных потоков. Показано, что установки с системой магнетронов, работающих в схеме замкнутого магнитного поля, позволяют реализовывать высокопроизводительный процесс получения качественных металлических и композиционных пленок.


Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1)
Свободны: ч.з. (1)

Найти похожие
 
Стандартный
Расширенный
Профессиональный
Распределенный
По словарю
ГРНТИ-навигатор
УДК-навигатор
ББК-навигатор
Тематический навигатор
Статистика
за 18.09.2024
Число запросов 12503
Число посетителей 1
Число заказов 0
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)