Главная Упрощенный режим Описание Шлюз Z39.50
Авторизация
Фамилия
Пароль
 

Базы данных


БД "Статьи" - результаты поиска

Вид поиска
БД "Книги"
БД "Статьи"
Труды АМГУ
Выпускные квалификационные работы
Антитеррор
Область поиска
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>A=Моисеев, Константин$<.>)
Общее количество найденных документов : 2
Показаны документы с 1 по 2
1.


    Моисеев, Константин (молодой шахтер).
    Покоритель подземных глубин [Текст] / Константин Моисеев ; [вела беседу] Ангелина Жукова // Наша молодежь. - 2014. - № 6. - С. 24-25 : 4 фот. . - ISSN 2222-5382
УДК
^a331
ББК 65.24
Рубрики: Экономика--Россия, 21 в.
   Экономика труда--Россия, 21 в.
Кл.слова (ненормированные):
выбор профессии -- выпускники колледжей -- горнотехнические колледжи -- интервью -- колледжи -- кузбасские угольные бассейны -- кузбасские шахтеры -- ленинск-кузнецкие колледжи -- молодые рабочие -- молодые шахтеры -- подземные электрослесари -- проекты -- профессии -- профессия шахтера -- профессия электрослесаря -- профориентация молодежи -- рабочие профессии -- труд шахтеров -- угольные бассейны -- шахтеры -- электрослесари подземные
Аннотация: Беседа с Константином Моисеевым, шахтером Кузнецкого угольного бассейна.


Доп.точки доступа:
Жукова, Ангелина \.\; Ленинск-Кузнецкий горнотехнический колледжЛКГТК

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1)
Свободны: ч.з. (1)

Найти похожие
2.


   
    Установки плазменной НЧ обработки GN tech MPC с повышенной мощностью [Текст] / Максим Богачев, Денис Васильев, Константин Моисеев [и др.] // Современная электроника. - 2023. - № 6. - С. 20-23 : 5 рис., 1 табл. - Библиогр. в конце ст. (7 назв. )
УДК
^a621.38
ББК 32.85
Рубрики: Радиоэлектроника
   Электроника в целом
Кл.слова (ненормированные):
биомедицина -- обработка -- оптические приборы -- плазменная обработка -- повышенная мощность -- полупроводниковые приборы -- электроника
Аннотация: Плазменная обработка является часто используемой технологической операцией при изготовлении многих изделий микро- и наноэлектроники, фотоники, оптики, биомедицины и др. При различных режимах возможна очистка, активация, травление и модификация поверхности обрабатываемых материалов и изделий. В установках с повышенной мощностью (более 500 Вт) электроды должны быть водоохлаждаемыми, при этом для отработки технологических режимов желательно обеспечить стабильную температуру охлаждающей воды с помощью чиллера. В статье приведена информация о линейке установок плазменной обработки MPC от российской компании GN tech. На примере модели MPC-F1-18 с мощностью разряда 1000 Вт продемонстрирован технологический диапазон, позволяющий технологам назначать базовые режимы плазменной обработки.


Доп.точки доступа:
Богачев, Максим; Васильев, Денис; Моисеев, Константин; Назаренко, Мария; Воробьев, Иван

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : эн.ф. (1)
Свободны: эн.ф. (1)

Найти похожие
 
Стандартный
Расширенный
Профессиональный
Распределенный
По словарю
ГРНТИ-навигатор
УДК-навигатор
ББК-навигатор
Тематический навигатор
Статистика
за 19.08.2024
Число запросов 62975
Число посетителей 1
Число заказов 0
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)