Главная Упрощенный режим Описание Шлюз Z39.50
Авторизация
Фамилия
Пароль
 

Базы данных


БД "Статьи" - результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Поисковый запрос: (<.>K=SiO[2]/Si (100)<.>)
Общее количество найденных документов : 1
1.


    Ткаченко, А. В.
    Квантово-химическое изучение свойств поверхности SiO[2]/Si (100) с имплантированными ионами бора [Текст] / А. В. Ткаченко, О. Ю. Ананьина, А. С. Яновский // Известия РАН. Серия физическая. - 2010. - Т. 74. N 2. - С. 176-179. - Библиогр.: c. 179 (7 назв. ) . - ISSN 0367-6765
УДК
ББК 24.58
Рубрики: Химия
   Физическая химия поверхностных явлений

Кл.слова (ненормированные):
SiO[2]/Si (100) -- адсорбция -- геометрические характеристики -- ионная имплантация -- ионы бора -- квантово-химические расчеты -- модифицированное пренебрежение дифференциальным перекрытием -- поверхности -- равновесные состояния -- физико-химические свойства -- электронные характеристики
Аннотация: Представлены результаты квантово-химических расчетов свойств поверхности SiO2/Si (100) с имплантированными ионами бора В+. Рассчитаны зависимости полной энергии системы "кластер - ион бора В+" в зависимости от нахождения иона В+ в кислородных и кремниевых вакансиях, геометрические и электронные характеристики равновесных состояний кластера с имплантированным ионом бора.


Доп.точки доступа:
Ананьина, О. Ю.; Яновский, А. С.

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1)
Свободны: ч.з. (1)

Найти похожие

 
Статистика
за 29.06.2024
Число запросов 51149
Число посетителей 1
Число заказов 0
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)