Главная Упрощенный режим Описание Шлюз Z39.50
Авторизация
Фамилия
Пароль
 

Базы данных


БД "Статьи" - результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>K=плазменные катоды<.>)
Общее количество найденных документов : 4
Показаны документы с 1 по 4
1.


    Месяц, Г. А.
    Электронная эмиссия из сегнетоэлектрических плазменных катодов [Текст] / Г. А. Месяц // Успехи физических наук. - 2008. - Т. 178, N 1. - С. 85-108 : 16 рис., 2 табл. - Библиогр.: с. 107-108 (101 назв. )
ГРНТИ
УДК
ББК 32.85 + 22.37
Рубрики: Радиоэлектроника
   Электроника

   Физика

   Физика твердого тела

Кл.слова (ненормированные):
электронная эмиссия -- сегнетоэлектрики -- плазменные катоды -- диэлектрики -- ускорители электронов
Аннотация: Интенсивная электронная эмиссия из диэлектрических катодов вызывается незавершенным разрядом по поверхности диэлектрика, обусловленным наличием на ней тангенциальной составляющей электрического поля.


Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1)
Свободны: ч.з. (1)

Найти похожие

2.


   
    Электронно-лучевая обработка керамики [Текст] / А. В. Медовник [и др. ] // Физика и химия обработки материалов. - 2010. - N 3. - С. 39-44 . - ISSN 0015-3214
УДК
ББК 35.42
Рубрики: Химическая технология
   Керамические изделия

Кл.слова (ненормированные):
плазменные катоды -- форвакуум -- электронные источники -- обработка диэлектриков -- диэлектрики -- электронно-лучевая обработка -- ток ионов -- мишени -- электронно-лучевая плавка -- диэлектрические мишени -- заряды -- керамические материалы -- сварка -- вакуумные камеры
Аннотация: Показана возможность компенсации накопленного в диэлектрической мишени заряда при электронно-лучевой обработке в форвакууме за счет тока ионов, образующихся в объемном разряде между отрицательно заряженной поверхностью мишени и заземленными стенками вакуумной камеры. Продемонстрирована возможность электронно-лучевой плавки и сварки керамических материалов.


Доп.точки доступа:
Медовник, А. В.; Бурдовицин, В. А.; Климов, А. С.; Окс, Е. М.

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1)
Свободны: ч.з. (1)

Найти похожие

3.


    Медовник, А. В.
    Формирование импульсного электронного пучка в системе с плазменным катодом в форвакуумной области давлений [Текст] / А. В. Медовник, В. А. Бурдовицин, Е. М. Окс // Известия вузов. Физика. - 2010. - Т. 53, N 2. - С. 27-32. . - Библиогр.: c. 31-32 (14 назв. )
УДК
ББК 22.338
Рубрики: Физика
   Движение заряженных частиц в электрических и магнитных полях

Кл.слова (ненормированные):
импульсные электронные пучки -- импульсный режим -- обратные ионные потоки -- плазменные катоды -- пробой ускоряющего промежутка -- форвакуумная область давлений
Аннотация: Представлены результаты экспериментального исследования особенностей формирования импульсных пучков плазменным источником электронов, функционирующим в форвакуумной области давлений (5-15 Па). Для этой области давлений на эмиссионные свойства плазмы оказывает влияние обратный ионный поток, генерируемый в областях формирования и транспортировки электронного пучка. Показано, что отношение тока обратных ионов к току электронного пучка может достигать 10, что на порядок величины превышает аналогичный параметр для электронных пучков, функционирующих в традиционном для таких устройств диапазоне давлений 0, 01-0, 1 Па. Проанализированы основные причины, ограничивающие сверху ток пучка в источнике с плазменным катодом.


Доп.точки доступа:
Бурдовицин, В. А.; Окс, Е. М.

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1)
Свободны: ч.з. (1)

Найти похожие

4.


    Гаврилов, Н. В.
    Низкотемпературное азотирование нержавеющей стали в плазме электронного пучка при 400 градусов Цельсия [Текст] / Н. В. Гаврилов, А. И. Меньшаков // Физика и химия обработки материалов. - 2012. - № 5. - С. 31-36 . - ISSN 0015-3214
УДК
ББК 34.65
Рубрики: Машиностроение
   Упрочнение металлов

Кл.слова (ненормированные):
азотирование -- плазменное азотирование -- электронные пучки -- поверхностные упрочнения -- диффузия азота -- плазменные катоды -- полые катоды -- самонакаливаемые полые катоды -- ионный ток -- аустениты -- нитриды железа -- рентгенофазовый анализ -- нержавеющие стали -- низкотемпературное плазменное азотирование
Аннотация: Изучено влияние тока ионного пучка на толщину упрочненного слоя, формирующегося при низкотемпературном (400 градусов Цельсия) плазменном азотировании аустенитной нержавеющей стали. Показано, что конкуренция процессов объемной диффузии азота и ионного распыления поверхности приводит к формированию азотированного слоя максимальной толщины при некотором оптимальном значении плотности ионного тока. При продолжительности азотирования 4 ч получены слои толщиной до 8 мкм, микротвердость которых достигает 12 ГПа. Концентрация азота на глубине 1-2 мкм составляет 25 ат. %, а на поверхности — до 50 ат. %. Рентгенофазовый анализ подтвердил формирование фаз расширенного аустенита и нитридов железа.


Доп.точки доступа:
Меньшаков, А. И.

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1)
Свободны: ч.з. (1)

Найти похожие

 
Статистика
за 29.06.2024
Число запросов 24525
Число посетителей 1
Число заказов 0
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)