Главная Упрощенный режим Описание Шлюз Z39.50
Авторизация
Фамилия
Пароль
 

Базы данных


БД "Статьи" - результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
Формат представления найденных документов:
полныйинформационныйкраткий
Поисковый запрос: (<.>K=магнетронные распылительные системы<.>)
Общее количество найденных документов : 1
1.


   
    Характеристики плазмы несбалансированной магнетронной распылительной системы и их влияние на параметры покрытий ZnO: Ga [Текст] / А. А. Соловьев [и др. ] // Физика и химия обработки материалов. - 2009. - N 2. - С. 58-65.
УДК
ББК 22.333
Рубрики: Физика
   Электронные и ионные явления. Физика плазмы

Кл.слова (ненормированные):
распылительные системы -- плазма -- катоды -- магнетронные распылительные системы -- тонкие пленки -- магнетронное распыление -- проводящие оксиды -- системы с электромагнитной катушкой -- несбалансированные магнетронные распылительные системы -- оксид цинка -- легирование -- галлий
Аннотация: Экспериментально изучены характеристики магнетронной распылительной системы с электромагнитной катушкой, позволяющей реализовывать различные конфигурации магнитного поля над поверхностью катода. Исследовано влияние режимов магнетронного распыления на свойства легированных галлием пленок оксида цинка.


Доп.точки доступа:
Соловьев, А. А.; Захаров, А. Н.; Работкин, С. В.; Оскомов, К. В.; Сочугов, Н. С.

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1)
Свободны: ч.з. (1)

Найти похожие

 
Статистика
за 10.09.2024
Число запросов 55279
Число посетителей 1
Число заказов 0
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)