Библиотека Амурского Государственного Университета

Главная

Упрощенный режим

Описание

Шлюз Z39.50

Базы данных

БД "Статьи" - результаты поиска

Вид поиска

БД "Книги"

БД "Статьи"

Труды АМГУ

Выпускные квалификационные работы

Антитеррор

Область поиска

Формат представления найденных документов:
полный	информационный	краткий

Отсортировать найденные документы по:
автору	заглавию	году издания	типу документа

Поисковый запрос: (<.>K=вакуумно-дуговая плазма<.>)

Общее количество найденных документов : 2
Показаны документы с 1 по 2

Крипакова, М. В.
Зависимость физико-механических свойств покрытий от материала подложки при использовании фильтрованного многокомпонентного потока вакуумно-дуговой плазмы [Текст] / М. В. Крипакова, И. М. Гончаренко, М. И. Лобач // Упрочняющие технологии и покрытия. - 2013. - № 5. - С. 26-32 : 5 рис., 2 табл. - Библиогр.: с. 32 (11 назв. ). - Подстроч. сноски . - ISSN 1813-1336

УДК

^a621.7

ББК 30.68
Рубрики: Техника--Россия
Обработка материалов
Кл.слова (ненормированные):
многокомпонентные покрытия -- дуговой разряд -- износостойкие покрытия -- вакуумно-дуговая плазма -- упругопластические свойства -- твердость -- адгезия -- модуль Юнга -- Юнга модуль
Аннотация: Авторами работы поставлена цель изучить влияние материалов подложек, обладающих совершенно отличными друг от друга физико-механическими свойствами и составами, на изменения значений твердости, модуля упругости и адгезии многокомпонентных износостойких покрытий.

Доп.точки доступа:
Гончаренко, И. М.; Лобач, М. И.
Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден)

Найти похожие

Осаждение микрочастиц из вакуумно-дуговой плазмы при подаче на мишень импульсно-периодического отрицательного потенциала смещения [Текст] / А. И. Рябчиков [и др.] // Физика и химия обработки материалов. - 2013. - № 3. - С. 31-37 . - ISSN 0015-3214

УДК

^a533.9

ББК 22.333
Рубрики: Физика
Электронные и ионные явления. Физика плазмы
Кл.слова (ненормированные):
вакуумно-дуговая плазма -- ионно-плазменные технологии -- микрочастицы -- мишени -- осаждение -- отрицательные потенциалы смещения -- покрытия
Аннотация: Экспериментально обнаружено, что приложение к мишени импульсно-периодического отрицательного потенциала смещения обеспечивает многократное снижение количества микрочастиц, осажденных на поверхность из вакуумно-дуговой плазмы. Рассмотрены механизмы уменьшения поверхностной плотности осажденных микрочастиц. При облучении мишени в течение 2 мин достигнуто снижение поверхностной плотности микрочастиц в 12 раз.

Доп.точки доступа:
Рябчиков, А. И.; Сивин, Д. О.; Бумагина, А. И.; Степанов, И. Б.; Струц, В. К.

Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1)
Свободны: ч.з. (1)

Найти похожие

Тематический навигатор

Статистика за 06.09.2024
Число запросов	54284
Число посетителей	1
Число заказов	0

© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)