Поисковый запрос: (<.>K=центры окраски<.>) |
Общее количество найденных документов : 16
Показаны документы с 1 по 16 |
1.
| Высоконелинейные фундаментальные механизмы возбуждения и окрашивания широкозонных кристаллов интенсивными фемтосекундными лазерными импульсами/Е. Ф. Мартынович [и др. ] // Оптика и спектроскопия, 2008. т.Т. 105,N N 3
|
2.
| Постэкспозиционное очувствление голограмм на центрах окраски в кристаллах CaF[2] некогерентным излучением/А. С. Щеулин [и др. ] // Оптика и спектроскопия, 2008. т.Т. 104,N N 6
|
3.
| Щеулкин А. С. Отражательная голограмма на М[A]{+}- центрах окраски в кристалле CaF[2]: Na как люминесцирующий одномерный фотонный кристалл/А. С. Щеулкин, А. К. Купчиков, А. И. Рыскин // Оптика и спектроскопия, 2009. т.Т. 107,N N 1
|
4.
| Щеулин А. С. Запись голограмм на центрах окраски в кристаллах CaF[2]: Na излучением с различными длинами волн/А. С. Щеулин, А. Е. Ангервакс, А. И. Рыскин // Оптика и спектроскопия, 2009. т.Т. 107,N N 6.-С.1051-1055
|
5.
| Винс В. Г. Влияние отжига при высоких давлениях и температурах на дефектно-примесную структуру природных алмазов/В. Г. Винс, А. П. Елисеев // Перспективные материалы, 2010,N N 1.-С.49-57
|
6.
| Аддитивное окрашивание оптической керамики CaF[2]/А. С. Щеулин [и др. ] // Оптика и спектроскопия, 2011. т.Т. 110,N N 4
|
7.
| Щеулин А. С. Кинетика формирования объемной голограммы в реверсивных фотохромных средах/А. С. Щеулин, А. Е. Ангервакс, А. И. Рыскин // Оптика и спектроскопия, 2011. т.Т. 110,N N 4
|
8.
| Кулагин Н. А. Спектры и центры окраски кристаллов титаната стронция/Н. А. Кулагин, E. Hieckmann // Оптика и спектроскопия, 2012. т.Т. 112,N № 1.-С.82-89
|
9.
| Кристаллы YAG:Yb для широкоапертурных лазеров и усилителей/Е. В. Антонов [и др.] // Перспективные материалы, 2012,N № 6.-С.23-26
|
10.
| Образование центров окраски и парамагнитных частиц при восстановлении полидифениленфталида металлическим литием в диметилформамиде/Н. М. Шишлов [и др.] // Известия РАН. Серия химическая, 2012,N № 9.-С.1695-1709
|
11.
| Зависимость профиля голограммы на центрах окраски в кристалле CaF[2] от типа формирующих голограмму центров/А. С. Щеулин [и др.] // Оптика и спектроскопия, 2012. т.Т. 113,N № 6.-С.712-717
|
12.
| Демин Д. Ю. Исследование кинетики концентрации наведенных центров окраски в ZnO, облученного протонами/Д. Ю. Демин, И. В. Верхотурова, В. В. Нещименко // Вестник Амурского государственного университета, 2014,N Вып. 65:Сер. Естеств. и экон. науки.-С.44-50
|
13.
| Особенности создания центров окраски при отжиге кристаллов LiF, облученных ионами Kr с энергией 150 МэВ/А. Т. Акилбеков [и др.] // Известия РАН. Серия физическая, 2014. т.Т. 78,N № 6.-С.738-742
|
14.
| Брюквина Л. И. Преобразования радиационно-наведенных молекулярных точечных дефектов и центров окраски в кристаллах LiF под воздействием света/Л. И. Брюквина // Физика твердого тела, 2019. т.Т. 61,N вып. 10.-С.1852-1858
|
15.
| Фотолюминесценция центров окраски германий-вакансия в полученных химическим газофазным осаждением алмазных частицах/С. А. Грудинкин, Н. А. Феоктистов, К. В. Богданов [и др.] // Физика твердого тела, 2020. т.Т. 62,N вып. 5.-С.807-813
|
16.
| Зависимость характеристик узких линий люминесценции в наноалмазах от параметров возбуждения и температуры/С. А. Грудинкин, А. Н. Смирнов, В. Ю. Давыдов, В. Г. Голубев // Физика твердого тела, 2021. т.Т. 63,N вып. 8.-С.1126-1131
|
|
|
БД "Книги"
Стандартный
Главная
Описание
Шлюз Z39.50