Главная Упрощенный режим Описание Шлюз Z39.50
Авторизация
Фамилия
Пароль
 

Базы данных


БД "Статьи" - результаты поиска

Вид поиска

Область поиска
Формат представления найденных документов:
полный информационныйкраткий
Отсортировать найденные документы по:
авторузаглавиюгоду изданиятипу документа
Поисковый запрос: (<.>K=защита от загрязнений<.>)
Общее количество найденных документов : 2
Показаны документы с 1 по 2
1.

Вид документа : Статья из журнала
Шифр издания :
Автор(ы) : Абуталипова Л. Н., Фаткуллина Р. Р., Зиятдинова Д. Р., Овсянников А. А.
Заглавие : Разработка комплекта рабочей одежды с использованием полимерно-текстильного материала для защиты от общих загрязнений
Серия: Наука - производству
Место публикации : Швейная промышленность. - 2014. - № 3. - С.30-31. - ISSN 0132-0955 (Шифр shvp/2014/3). - ISSN 0132-0955
Примечания : Библиогр.: с. 31 (9 назв. )
УДК : 687
ББК : 37.24
Предметные рубрики: Легкая промышленность
Швейное производство
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): защита от загрязнений--защитные свойства--комплекты рабочей одежды--конструкции моделей--материалы для одежды--модели рабочей одежды--общие загрязнения--особенности моделей--полимерно-текстильные материалы--производственные загрязнения--рабочая одежда--разработка комплектов--свойства материалов--специальная одежда--спецодежда
Аннотация: Приведены особенности рабочей модели одежды. Рассмотрены конструкция и применяемые для изготовления рабочей одежды текстильные и полимерно-текстильный материалы.
Найти похожие

2.

Вид документа : Статья из журнала
Шифр издания :
Автор(ы) : Володин Б. А., Клюенков Е. Б., Лопатин А. Я., Лукьянов А. Ю., Лучин В. И., Пестов А. Е., Салащенко Н. Н., Цыбин Н. Н., Шмаенок Л. А.
Заглавие : Высокопрозрачные свободновисящие пленки для защиты маски от загрязнений в установках проекционной ЭУФ-литографии
Место публикации : Известия РАН. Серия физическая. - 2014. - Т. 78, № 1. - С.82-85: рис. - ISSN 0367-6765 (Шифр ranf/2014/78/1). - ISSN 0367-6765
Примечания : Библиогр.: c. 85 (7 назв. )
УДК : 621.793.182
ББК : 34.64
Предметные рубрики: Машиностроение
Соединения деталей машин
Ключевые слова (''Своб.индексиров.''): защита от загрязнений--защитные экраны--маски эуф-нанолитографа--проекционная эуф-литография--сверхтонкие пленки--экстремальное ультрафиолетовое излучение
Аннотация: Продемонстрирована возможность изготовления сверхтонких свободновисящих пленок с повышенной прозрачностью на рабочей длине волны 13. 5 нм для применения в качестве защитного экрана маски в установках проекционной ЭУФ-литографии. Изготовлены и изучены образцы пленок толщиной 25-50 нм с апертурой до 80 мм нескольких видов: многослойные тонкопленочные структуры Mo/NbSi[2], Mo/ZrSi[2] и Si с пропусканием 84-86% на длине волны 13. 5 нм. Достигнутые результаты дают основания надеяться, что развитие методики изготовления свободновисящих сверхтонких пленок позволит удовлетворить требованиям, предъявляемым к защитному экрану.
Найти похожие

 
Статистика
за 28.07.2024
Число запросов 158683
Число посетителей 1
Число заказов 0
© Международная Ассоциация пользователей и разработчиков электронных библиотек и новых информационных технологий
(Ассоциация ЭБНИТ)