Вид документа : Статья из журнала Шифр издания : Автор(ы) : Новиков А. В., Багаев В. С., Кривобок В. С., Мартовицкий В. П. Заглавие : Распределение германия в слоях Si[1-x]Ge[x] (x0. 1), выращенных на подложке Si (001), в зависимости от их толщины Серия: Электронные свойства твердых тел Место публикации : Журнал экспериментальной и теоретической физики. - 2009. - Т. 136, вып. 6. - С.1154-1169. - ISSN 0044-4510 (Шифр zhtf/2009/136/6). - ISSN 0044-4510 Примечания : Библиогр.: с. 1168-1169 УДК : 530.1 ББК : 22.31 Предметные рубрики: Теоретическая физика Физика Аннотация: Исследовано распределение германия в слоях Si[1-x]Ge[x] (x0. 1), выращенных на подложке Si (001), в зависимости от их толщины. Доп.точки доступа: Новиков, А. В.; Багаев, В. С.; Кривобок, В. С.; Мартовицкий, В. П.