Полимеры для нанолитографии. Новая стратегия и синтеза сополимеров производных малеимида, норборнена и стирола с боковыми гексафторизопропанольными и трет-бутилкарбонатными группами [Текст] / А. Я. Вайнер [и др. ] // Доклады Академии наук. - 2008. - Т. 420, N 1, май. - С. 62-65. - Библиогр.: с. 65
Рубрики: Химия Химия высокомолекулярных соединений Кл.слова (ненормированные): интегральные схемы -- фотолитографический процесс -- синтез полимеров -- нанолитография -- радикальная сополимеризация Аннотация: Предложена новая стратегия дизайна и синтеза полимеров для нанолитографии, адекватных технологий с экспонирующим излучением на длине волны 248 нм и позволяющих реализовать микросхемы с суб-0. 1 мкм минимальными размерами. Доп.точки доступа: Вайнер, А. Я.; Дюмаев, К. М.; Еремина, Л. А.; Машанский, Ф. И.; Менделева, Ю. А.; Тарнопольский, А. И. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |