Высокопрозрачные свободновисящие пленки для защиты маски от загрязнений в установках проекционной ЭУФ-литографии [Текст] / Б. А. Володин [и др.] // Известия РАН. Серия физическая. - 2014. - Т. 78, № 1. - С. 82-85 : рис. - Библиогр.: c. 85 (7 назв. ) . - ISSN 0367-6765
Рубрики: Машиностроение Соединения деталей машин Кл.слова (ненормированные): защита от загрязнений -- защитные экраны -- маски ЭУФ-нанолитографа -- проекционная ЭУФ-литография -- сверхтонкие пленки -- экстремальное ультрафиолетовое излучение Аннотация: Продемонстрирована возможность изготовления сверхтонких свободновисящих пленок с повышенной прозрачностью на рабочей длине волны 13. 5 нм для применения в качестве защитного экрана маски в установках проекционной ЭУФ-литографии. Изготовлены и изучены образцы пленок толщиной 25-50 нм с апертурой до 80 мм нескольких видов: многослойные тонкопленочные структуры Mo/NbSi[2], Mo/ZrSi[2] и Si с пропусканием 84-86% на длине волны 13. 5 нм. Достигнутые результаты дают основания надеяться, что развитие методики изготовления свободновисящих сверхтонких пленок позволит удовлетворить требованиям, предъявляемым к защитному экрану. Доп.точки доступа: Володин, Б. А.; Клюенков, Е. Б.; Лопатин, А. Я.; Лукьянов, А. Ю.; Лучин, В. И.; Пестов, А. Е.; Салащенко, Н. Н.; Цыбин, Н. Н.; Шмаенок, Л. А. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |