Исследование фотоэлектрических свойств полиимидов на основе N,N',N'',N'''-замещенного парафенилендиамина и диангидридов ароматических тетракарбоновых кислот [Текст] / Б. М. Румянцев [и др.] // Пластические массы. - 2011. - № 12. - С. 9-13. - Библиогр.: с. 13 (13 назв.) . - ISSN 0544-2901
Рубрики: Химическая технология Полимеры и пластмассы с особой структурой, особыми свойствами и специального назначения Кл.слова (ненормированные): полимеры -- замещенные парафенилендиамины -- диангидриды -- полиимиды -- сложные полиимиды -- тетракарбоновые кислоты -- ароматические кислоты -- фотоэлектрические характеристики полиимидов -- фотоэлектрическая чувствительность -- фотогенерация -- комплексы с переносом заряда Аннотация: В работе исследованы фотоэлектрические характеристики сложных полиимидов на основе N, N', N'', N'''-замещенного парафенилендиамина и диангидридов ароматических тетракарбоновых кислот. Обнаружена фотоэлектрическая чувствительность пленок исследованных полиимидов как в ультрафиолетовом, так и в видимых областях спектра. Исследована полевая зависимость квантового выхода фотогенерации носителей заряда. Доп.точки доступа: Румянцев, Б. М.; Берендяев, В. И.; Liaw Der-Jang; Huang Ying-Chi; Дорофеев, С. Г.; Кононов, Н. Н.; Зубов, В. П.; Ольхов, А. А.; Бахтин, А. В.; Ищенко, А. А. Нет сведений об экземплярах (Источник в БД не найден) |