Ионно-плазменная генерация тонкого TiN-покрытия фольги электролитических конденсаторов [Текст] / Г. В. Ходаченко [и др. ]> // Известия РАН. Серия физическая. - 2010. - Т. 74. N 2. - С. 277-283. - Библиогр.: c. 283 (5 назв. ) . - ISSN 0367-6765
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Кл.слова (ненормированные): азотная плазма -- алюминиевая фольга -- высокочастотные индуктивные разряды -- защитные покрытия -- ионно-плазменная генерация -- конденсаторная катодная фольга -- плазменные магнетронные технологии -- пленка TiN -- поверхности -- тонкие пленки -- фольга -- электролитические конденсаторы Аннотация: Представлены результаты исследований защитных покрытий TiN, формируемых на наноструктурированной катодной фольге с помощью плазменных магнетронных технологий и при облучении азотной плазмой высокочастотного индуктивного (ВЧИ) разряда. Показано их влияние на структуру покрытий. Проведено исследование возможности управления энергией и потоком ионов из плазмы ВЧИ-разряда на заземленную подложку. Показано, что при неизолированных стенках камеры и низких давлениях такие режимы не реализуются. Доп.точки доступа: Ходаченко, Г. В.; Писарев, А. А.; Крашевская, Г. В.; Щелканов, И. А.; Орлов, И. Е.; Соколов, А. Ю.; Казиев, А. В.; Атаманов, М. В.; Юрченко, А. А.; Купцов, К. А. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |