Характеристики плазмы несбалансированной магнетронной распылительной системы и их влияние на параметры покрытий ZnO: Ga [Текст] / А. А. Соловьев [и др. ] // Физика и химия обработки материалов. - 2009. - N 2. - С. 58-65.
Рубрики: Физика Электронные и ионные явления. Физика плазмы Кл.слова (ненормированные): распылительные системы -- плазма -- катоды -- магнетронные распылительные системы -- тонкие пленки -- магнетронное распыление -- проводящие оксиды -- системы с электромагнитной катушкой -- несбалансированные магнетронные распылительные системы -- оксид цинка -- легирование -- галлий Аннотация: Экспериментально изучены характеристики магнетронной распылительной системы с электромагнитной катушкой, позволяющей реализовывать различные конфигурации магнитного поля над поверхностью катода. Исследовано влияние режимов магнетронного распыления на свойства легированных галлием пленок оксида цинка. Доп.точки доступа: Соловьев, А. А.; Захаров, А. Н.; Работкин, С. В.; Оскомов, К. В.; Сочугов, Н. С. Имеются экземпляры в отделах: всего 1 : ч.з. (1) Свободны: ч.з. (1) |